1、構(gòu)思和設(shè)計(jì)系統(tǒng)
當(dāng)光源的光軸垂直于目標(biāo)平面時(shí),目標(biāo)平面的所有邊緣都具有對(duì)稱(chēng)性。此屬性用于所有標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器的設(shè)計(jì)中,以生成空間均勻的光場(chǎng)。
標(biāo)準(zhǔn)的太陽(yáng)模擬器產(chǎn)生垂直于光源光軸的空間均勻的目標(biāo)平面。當(dāng)光源的光軸垂直于目標(biāo)平面時(shí),目標(biāo)平面的所有邊緣都具有對(duì)稱(chēng)性。當(dāng)可以使用這種對(duì)稱(chēng)性時(shí),更容易實(shí)現(xiàn)空間均勻性。根據(jù)客戶(hù)要求,需要將太陽(yáng)模擬器放置在與目標(biāo)平面光軸大約30°的位置。因此,需要通過(guò)研究和開(kāi)發(fā)新的光學(xué)均質(zhì)系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)空間均勻性。
i)光學(xué)建模
科學(xué)技術(shù)工程團(tuán)隊(duì)使用了廣泛的光學(xué)建模來(lái)模擬單個(gè)投影儀和均質(zhì)化系統(tǒng),該系統(tǒng)可以在所需體積上實(shí)現(xiàn)空間均勻的光線(xiàn)。后來(lái),排列了一個(gè)包含多個(gè)投影儀系統(tǒng)的太陽(yáng)模擬器,并使用光學(xué)建模軟件優(yōu)化了投影儀的位置,以實(shí)現(xiàn)均勻的光量。
當(dāng)組合了不同的光學(xué)材料和光源時(shí),制作了一個(gè)特殊的軟件來(lái)模擬終的光譜輪廓。選擇并評(píng)估了許多濾光片和光源,以確定是否可以找到光源,光學(xué)器件(如透鏡和反射鏡)以及濾光片的理想組合。選擇理想的光學(xué)組合時(shí),對(duì)項(xiàng)目的預(yù)算給予了特別關(guān)注??紤]到石英鎢鹵素?zé)簦≦TH)的平滑IR發(fā)射,它被確定為模擬光的*佳光源。
對(duì)單個(gè)投影機(jī)進(jìn)行測(cè)試以評(píng)估均勻性和穩(wěn)定性。
為了進(jìn)一步測(cè)試,開(kāi)發(fā)了用于測(cè)量三維空間均勻性的模擬光柵。
ii)測(cè)試系統(tǒng)的耐用性
進(jìn)行了耐溫測(cè)試,以確定所選的光學(xué)材料和濾光片是否可以在燈的高光功率輸出下幸免。還進(jìn)行了測(cè)試,以確定所需的空氣流量,用于系統(tǒng)冷卻目的的風(fēng)扇的類(lèi)型和位置。
iii)輻射衰減
進(jìn)行光學(xué)建模以確定衰減器的*佳尺寸和位置,使其能夠滿(mǎn)足項(xiàng)目的衰減要求。
2、原型設(shè)計(jì)實(shí)施
八個(gè)投影儀單元用于所需目標(biāo)區(qū)域的設(shè)計(jì)和照明。每個(gè)光學(xué)投影儀單元都由一個(gè)2 kW QTH燈組成,該燈帶有一個(gè)固定在橢圓形反射鏡中的石英外殼。每個(gè)單元還包含一個(gè)均質(zhì)組件,以實(shí)現(xiàn)所需的均勻性要求。在精心設(shè)計(jì)和微調(diào)系統(tǒng)后,成功實(shí)現(xiàn)了空間均勻性規(guī)范。
此外,QTH燈系統(tǒng)還集成了物鏡和投影透鏡,以及用于消除不想要的波長(zhǎng)范圍的長(zhǎng)通濾光鏡。
在整個(gè)三維體積上,光功率足以在700-1100nm區(qū)域中達(dá)到所需的功率水平。當(dāng)測(cè)量700nm-1100nm光譜輸出時(shí),系統(tǒng)在目標(biāo)平面上提供了所需的輻照度(ASTM E927)。光譜輸出的形狀與700-1100nm波長(zhǎng)的ASTM AM1.5G曲線(xiàn)匹配。工作距離也被設(shè)置為可調(diào)的,以適應(yīng)兩種不同的焦距。
設(shè)計(jì)并生產(chǎn)了一種廉價(jià)的光學(xué)系統(tǒng),以實(shí)現(xiàn)預(yù)期的空間均勻性,光譜和光功率。使用風(fēng)扇將光學(xué)元件和濾光片充分冷卻。該系統(tǒng)能夠以10%的增量衰減輸出輻照度,同時(shí)保持輸出光的空間均勻性。
3、測(cè)試與安裝
該系統(tǒng)已成功完成,并且由科學(xué)技術(shù)工程師在客戶(hù)實(shí)驗(yàn)室所在地進(jìn)行了安裝和培訓(xùn)。